(ANSA) – ROMA, 26 MAR – Mega-investimento in Cina per Intel: il gruppo Usa ha annunciato un piano per la realizzazione di una fabbrica da 2,5 miliardi di dollari.La realizzazione dell’impianto di Dalian da parte di Intel, primo produttore mondiale di semiconduttori, prendera’ il via quest’anno e la fabbrica entrera’ in produzione nella prima meta’ del 2010. Lo ha spiegato oggi a Pechino l’ad Paul Otellini, secondo quanto riferisce l’agenzia Bloomberg. Sale cosi’ a 4 mld l’investimento totale dell’azienda in Cina.

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